第571章 半导体行动

周瑜听着这些工程师们的议论，也参与其中，说道：“按照阿斯麦公司给出来的官方资料，EUV光刻机可以适用于生产所谓10nm以下的先进制程节点，而DUV光刻机通常用于生产大于10nm的制程工艺。

但其...